蔡康光學精密高溫溫控加熱臺/高溫熱臺主要供眾多學科（地質學、電子學、粉體包裹體、冶金學、材料學、制陶、物理學、化學、 牙科、熱分析學）領域，從事研究、分析、和觀察使用。
一、儀器用途介紹：
蔡康光學精密高溫溫控加熱臺/高溫熱臺主要供眾多學科（地質學、電子學、粉體包裹體、冶金學、材料學、制陶、物理學、化學、 牙科、熱分析學）領域，從事研究、分析、和觀察使用。與光學或電子顯微鏡配合使用，在微觀上觀察其溶化、升華、結晶過程中的狀 態和各種變化和。該儀器采用人性化“傻瓜”設計，自動化程度高，操作簡單，技術先進，性能優秀，結構新穎可靠，在該領域處于領先水平。
二、CK-850型850度高溫熱臺技術參數：
詳細描述：
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樣品艙 |
φ8×2.5 mm |
φ8×4 mm |
φ10×2.5 mm |
φ10×4 mm |
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窗口至樣品距離 |
6mm |
7.5mm |
6mm |
7.5mm |
1）溫度范圍：室溫~850 ℃
2）觀察光孔：φ1.7 mm
3）最大升溫速率：100 ℃/min測 溫：熱電偶
4）溫度顯示精度和穩定度：1 ℃
5）實驗環境：腔體密閉，可通隋性氣氛
6) 冷卻方式：循環水冷
配套部件：循環冷卻水泵;熱臺溫度控制儀;溫度控制軟件;制箔器等
三、CK-850型850度高溫熱臺軟件控制曲線：
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